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Scaffale di incisione Consumabili per semiconduttori Ceramica al carburo di silicio sinterizzata

Luogo di origine Henan, Cina
Marca CAEC
Certificazione ISO9001, ISO14001, OHSAS18001
Quantità di ordine minimo Un pezzo solo
Prezzo USD 1 for one piece
Imballaggi particolari Imballaggio di serie per l'esportazione
Tempi di consegna 7-10 giorni
Capacità di alimentazione 50000 pezzi al mese

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Scaffale di incisione Consumabili per semiconduttori

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Tavolo di incisione in ceramica al carburo di silicio sinterizzato

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Scaffale per l'incisione di carburo di silicio sinterizzato

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Descrizione di prodotto

Scaffale di incisione Consumabili per semiconduttori

 

Caratteristiche principali

Il vassoio di incisione è realizzato in ceramica sinterizzata di carburo di silicio di alta purezza senza pressione. Ha le caratteristiche di alta durezza, resistenza alla corrosione, resistenza all'usura, lunga durata di vita,elevata precisione e buona uniformità di incisione dello strato di epitaxia dei wafer.

 

Applicazione

Processo di incisione ICP di materiali a pellicola epitassica ((GaN, SiO 2, ecc.) per chip di wafer LED, parti ceramiche di precisione per la diffusione dei semiconduttori e processo di epitaxia MOCVD per i wafer dei semiconduttori.

 

Specificità:

Diametro: 50~500mm. spessore: 3~20mm, sono disponibili specifiche su misura.